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真空鍍膜的膜層厚度如何測量?

發布日期:2022-03-29

在使用真空鍍膜機鍍膜之后,為了需要可能會要測量膜層的厚度,測量膜層的厚度用什么方法呢?

  最直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM),這種儀器可以直接驅動蒸發源,通過PID控制循環驅動擋板,保持蒸發速率。

  只要將儀器與系統控制軟件相連接,它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的度是有限的,部分原因是由于它監控的是被鍍膜的質量而不是其光學厚度。

  此外雖然QCM在較低溫度下非常穩定,但溫度較高時,它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中,很難阻止傳感器跌入這個敏感區域,從而對膜層造成重大誤差。

  光學監控是高精密鍍膜的的首選監控方式,這是因為它可以更地控制膜層厚度(如果運用得當)。

  改進源于很多因素,但最根本的原因是對光學厚度的監控。



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